В России создан опытный образец 130 нанометрового литографа для чипов
14.08.2026
Источник: е пром В России завершена разработка литографа – установки проекционного переноса изображений для производства интегральных схем с нормами 130 нм, сообщило издание CNews. Оборудование создано Зеленоградским нанотехнологическим центром (ЗНТЦ) совместно с белорусской компанией «Планар». Ключевые факты: Установка предназначена для пластин диаметром до 200 мм и проектной нормы 130 нм. Главная особенность — использование эксимерного лазера с длиной волны 193 нм, что соответствует мировым стандартам DUV-литографии. Общий бюджет опытно-конструкторских работ от Минпромторга — 5,7 млрд руб., стоимость третьего этапа — 2,46 млрд руб. Серийные поставки планируются с 2027 года. По оценке экспертов, создание установки доказывает наличие инженерных компетенций и открывает путь к нормам 90 и 65 нм. При этом от образца до промышленной эксплуатации путь еще значительный. Емкость российского рынка для таких установок оценивается в 15–25 единиц до 2030–2032 гг. с учетом износа текущего парка зарубежных машин. Производство будет штучным, мелкосерийным. Ранее ЗНТЦ уже создал серийный фотолитограф на 350 нм и установку электронно-лучевой литографии на 150 нм. |
ВНИМАНИЕ! НОВАЯ ФОРМА СВЕДЕНИЙ, ХАРАКТЕРИЗУЮЩИХ ОПО! см раздел РЕГИСТРАЦИЯ ОПО
С 01.03.2026 заявления о предоставлении лицензии (о внесении изменений в ЕРУЛ) направляются в лицензирующий орган через ЕПГУ (см. раздел Деятельность - Лицензирование).
Внимание! С 01.03.2026 вступают в действие новые Правила регистрации опасных производственных объектов! Подробности в разделе Деятельность - Регистрация ОПО
Внимание! С 29.10.2025 новая форма заявления об аттестации. Подробности в разделе Деятельность - Подготовка и аттестация работников.
Внимание! С 04.02.2026 положительный результат гос.услуги по ЗЭПБ на бумажном носителе не предоставляется (подробности в разделе «Экспертиза промышленной безопасности»)
Внимание! Основной адрес электронной почты Управления [office@nvol.gosnadzor.gov.ru].
